| 发明名称 |
Haltesystem für Halbleiterwafer und Verfahren davon |
| 摘要 |
A semiconductor wafer may be secured to a wafer support system by causing a supported surface of the semiconductor wafer to be at a lower gas pressure than an exposed surface of the semiconductor wafer. |
| 申请公布号 |
DE112004002610(T5) |
申请公布日期 |
2006.11.16 |
| 申请号 |
DE20041102610 |
申请日期 |
2004.12.28 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
WILK, BRIAN;JOYCE, FRANK;KREAGER, DOUGLAS;REPKO, THOMAS A. |
| 分类号 |
H01L21/68;B24B37/04;H01L21/673;H01L21/683;H01L21/687 |
主分类号 |
H01L21/68 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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