光学接近修正方法

摘要

本发明提供一种对光掩膜布局图进行光学接近修正的方法，其中该光掩膜布局图至少包含一个光掩膜图案。该方法包含有下列步骤：收集预定加入该光掩膜布局图中之一辅助图案的辅助图案修正偏差值，接着结合该辅助图案修正偏差值，进行基准式光学接近修正，计算出该光掩膜图案需修正的目标修正偏差值，并依照计算结果对该光掩膜图案进行修正，输出修正的光掩膜布局图，最后在该修正的光掩膜布局图中加入该辅助图案。

主权项

1.一种在光掩膜布局图进行光学接近修正的方法，该光掩膜布局图至少包含一个光掩膜图案，该方法包含有下列步骤：收集预定加入该光掩膜布局图中为散射条图案的辅助图案修正偏差值并同时收集原始光掩膜图案的曝光偏差值数据；将收集到的该辅助图案修正偏差值和原始光掩膜图案的曝光偏差值转换成进行该基准式光学接近修正时所需求的数据模式；结合该辅助图案修正偏差值，进行基准式光学接近修正，计算出该光掩膜图案需修正的目标修正偏差值，并依照计算结果对该光掩膜图案进行修正，输出修正的光掩膜布局图；以及在该修正的光掩膜布局图中加入该散射条图案的辅助图案。