| 发明名称 | 掩模图形的检验方法和检验装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种掩模图形的检验方法和检验装置，该掩模是基于绘制图形数据形成的、用于半导体集成电路的光掩模，该检验方法包括下列步骤：根据预定的基准值将半导体集成电路的绘制图形划分成多个级别并将其抽出；确定每一级别的检验精度；和根据是否满足确定的检验精度来判定光掩模的质量。该检验方法可以缩短TAT和降低成本。 | ||
| 申请公布号 | CN1285112C | 申请公布日期 | 2006.11.15 |
| 申请号 | CN200310122291.3 | 申请日期 | 2003.11.26 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 德永真也;辻川洋行;谷本正 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);H01L21/82(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种检验根据绘制图形数据形成的、用于半导体集成电路的光掩模的方法，包括步骤：根据取决于绘制图形的特征的基准，将该半导体集成电路中的绘制图形划分成多个级别并将其抽出；对每一级别确定检验精度；和根据对这样抽出的每一绘制图形是否满足所述确定的检验精度来判定该光掩模的质量。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||