发明名称 | 一种用于处理导电表面的增强性工艺方法以及由此形成的产品 | ||
摘要 | 本发明涉及一种在金属表面或导电表面上形成沉积物的工艺方法。该工艺方法利用能量增强工艺将含有矿物的涂层或膜沉积到金属的或者导电的表面上。 | ||
申请公布号 | CN1284886C | 申请公布日期 | 2006.11.15 |
申请号 | CN01808781.7 | 申请日期 | 2001.03.22 |
申请人 | 以利沙控股有限公司 | 发明人 | 罗伯特·L·海曼;威廉姆·M·多尔顿;约翰·哈恩;戴维·M·普赖斯;韦恩·L·苏西;尚德龙·拉维 |
分类号 | C25D9/04(2006.01);C25D9/08(2006.01) | 主分类号 | C25D9/04(2006.01) |
代理机构 | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人 | 许天易 |
主权项 | 1.一种用于处理具有导电表面的基底的方法,包括:使至少一部分表面与包括至少一种硅酸盐并具有碱性pH值的介质接触,其中所述介质不含铬酸盐;将电流引到所述介质中,其中所述表面用作阴极;以及回收所述基底;后处理步骤,将所述表面与至少一种组合物接触。 | ||
地址 | 美国蒙大拿州 |