| 主权项 |
1.一种用于支撑一负载之设备,其包含: 一耦接至该负载且可随该负载运动之枢轴设备; 一相对于该枢轴设备而固定不动之基底; 介于该枢轴设备与该基底之间的至少两个支撑区 域,其中在该等两个支撑区域处存在各自反向之力 的分量; 该等两个支撑区域沿至少一弯曲路径运动,以倾斜 该负载;及 该等两个支撑区域于一方向运动并引起该负载之 一区域于一前述方向之相反方向上运动。 2.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其中该枢轴设备包含位于该等两个支撑区域处之 圆形构件,该等圆形构件沿该弯曲路径运动,以倾 斜该负载。 3.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其中该枢轴设备包含至少一个构件,该等两个支撑 区域位于该至少一个构件处,该枢轴设备沿相对于 该负载而凹入的弯曲路径运动。 4.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其中该弯曲路径定向于一垂直平面内,且设置该枢 轴设备,使得该枢轴设备沿该弯曲路径之向上运动 会导致与该负载之面向该弯曲路径的一表面相对 的该负载之另一表面向下倾斜。 5.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 设置该枢轴设备,使得该枢轴设备沿该弯曲路径之 运动会导致该负载绕一大致上与该负载之一重力 中心相交之轴而倾斜。 6.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其进一步包含一刚性耦接至该基底之轴构件,该轴 构件耦接至该枢轴设备,当该轴构件控制该枢轴设 备沿该弯曲路径之运动时,该枢轴设备可沿该轴构 件运动。 7.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其进一步包含一用于使该负载围绕一正交于另一 轴之轴旋转的滚动锁定板,其中该负载绕该另一轴 而倾斜。 8.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备, 其进一步包含一介于该枢轴设备与该基底之间的 连杆,该连杆具有一位于该基底处之第一枢轴点及 一位于该枢轴设备处之第二枢轴点,该连杆随着该 负载倾斜而旋转朝向该基底或旋转离开该基底。 9.如申请专利范围第8项之用于支撑一负载之设备, 其中该第二枢轴点与该等支撑区域中的一个区域 重合。 10.如申请专利范围第8项之用于支撑一负载之设备 ,其进一步包含介于该枢轴设备与该基底之间的另 一连杆,该另一连杆具有一位于该基底处之第三枢 轴点及一位于该枢轴设备处之第四枢轴点,该另一 连杆随着该负载倾斜而旋转朝向该基底或旋转离 开该基底。 11.如申请专利范围第10项之用于支撑一负载之设 备,其中该第二枢轴点与该等支撑区域中的另一个 区域重合。 12.如申请专利范围第10项之用于支撑一负载之设 备,其中该第二枢轴点与该第四枢轴点围绕平行轴 旋转。 13.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备 ,其进一步包含: 一耦接至第二基底之第二枢轴设备; 一相对于该第二枢轴设备而固定不动之第二基底; 介于该第二枢轴设备与该第二基底之间的至少两 个另外支撑区域,其中在该等两个另外支撑区域处 存在各自反向之力的分量; 该等两个另外支撑区域沿至少另一弯曲路径运动, 以倾斜该负载。 14.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备 ,其进一步包含一中空环,该中空环可旋转以使得 该负载围绕一正交于另一轴之轴旋转,其中该负载 绕该另一轴倾斜。 15.如申请专利范围第14项之用于支撑一负载之设 备,其中该中空环之一部分可移除。 16.如申请专利范围第15项之用于支撑一负载之设 备,其中一缆线位于该环内。 17.如申请专利范围第1项之用于支撑一负载之设备 ,其中该基底为一大致上呈c形之构件,其具有一自 其一侧面延伸之开口。 18.如申请专利范围第17项之用于支撑一负载之设 备,其中一缆线位于该开口内。 19.一种用于移动一负载之方法,其包含: 相对于一枢轴设备维持一基底固定不动;及 藉由以下方式使该负载倾斜; 使介于该枢轴设备与该基底之间的至少两个支撑 区域于一方向并沿至少一弯曲路径运动,同时在该 等两个支撑区域处存在各自反向之力的分量;及 引起该负载之一区域于一前述方向之相反方向上 运动。 20.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中在该等两个支撑区域处之圆形构件沿该弯 曲路径运动,以倾斜该负载。 21.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中在该等两个支撑区域处之至少一构件沿该 弯曲路径运动,以倾斜该负载。 22.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中该弯曲路径相对于该负载凹入。 23.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中该弯曲路径定向于一垂直平面内,且其中 该等两个支撑区域沿该弯曲路径向上运动,使得与 该负载之面向该弯曲路径之一表面相对的该负载 之另一表面向下倾斜。 24.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中该等两个支撑区域沿该弯曲路径之运动导 致该负载绕一大致上与该负载之一重力中心相交 之轴倾斜。 25.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其进一步包含使该枢轴设备沿一轴构件运动之 步骤,其中该轴构件耦接至该枢轴设备且其刚性地 耦接至该基底,使得该轴构件可控制该枢轴设备沿 该弯曲路径之运动。 26.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其进一步包含使该负载围绕一正交于另一轴之 轴旋转之步骤,其中该负载绕该另一轴而倾斜。 27.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中一连杆位于该枢轴设备与该基底之间,该 连杆具有一位于该基底处之第一枢轴点及一位于 该枢轴设备处之第二枢轴点,该连杆随着该负载倾 斜而旋转朝向该基底或旋转离开该基底。 28.如申请专利范围第27项之用于移动一负载之方 法,其中该第二枢轴点与该等支撑区域中的一个区 域重合。 29.如申请专利范围第27项之用于移动一负载之方 法,其中另一连杆位于该枢轴设备与该基底之间, 该另一连杆具有一位于该基底处之第三枢轴点及 一位于该枢轴设备处之第四枢轴点,该另一连杆随 着该负载倾斜而旋转朝向该基底或旋转离开该基 底。 30.如申请专利范围第29项之用于移动一负载之方 法,其中该第二枢轴点与该等支撑区域中的另一个 区域重合。 31.如申请专利范围第29项之用于移动一负载之方 法,其中该第二枢轴点与该第四枢轴点围绕平行轴 旋转。 32.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中: 一第二枢轴设备耦接至一第二基底; 一第二基底相对于该第二枢轴设备而固定不动; 至少两个另外支撑区域介于该第二枢轴设备与该 第二基底之间;及 在该等两个另外支撑区域处存在各自反向之力的 分量; 该等两个另外支撑区域沿至少另一弯曲路径运动, 以倾斜该负载。 33.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其中使一中空环旋转,以便使该负载围绕一正 交于另一轴之轴旋转,其中该负载绕该另一轴而倾 斜。 34.如申请专利范围第33项之用于移动一负载之方 法,其进一步包括移除该中空环之一部分的步骤。 35.如申请专利范围第34项之用于移动一负载之方 法,其进一步包括将一缆线设置在该环内之步骤。 36.如申请专利范围第19项之用于移动一负载之方 法,其进一步包括设置一缆线使其穿过该基底内之 一开口的步骤,该基底呈c形,该开口自该基底之一 侧面延伸。 图式简单说明: 图1A为展示根据本发明一例示性实施例之测试头 之各个方位及测试头定位器之一部分的侧视图。 图1B-1D为本发明之例示性实施例之各自的侧视图, 其展示图1A中所示之各种方位之测试头,且另外展 示作用于测试头上之力。 图2A-2C为根据本发明一例示性实施例之附着至测 试头操纵器之在各种方位中的测试头之侧视图。 图3为图2A-2C之附着至定位器系统之测试头的透视 图。 图4为在图3之系统中所使用的操纵器关节之分解 图。 图5为包含在操纵器关节内之导向板及安装板之透 视图。 图6为展示图5之导向板及安装板之透视图,其亦展 示支承板及相关机械物品。 图7为外壳之透视图。 图8A为外壳之俯视图 图8B为外壳之正视剖面图。 图8C为图8B之一部分的放大图。 图9为展示凸轮如何啮合导向板内之轨道的剖示图 。 图10A为根据本发明之另一例示性实施例的测试头 之侧视图。 图10B及图10C图解说明各种方位的图10A之测试头。 图10D为图解说明图10A之测试头之旋转如何引起测 试头的重力中心移动的简图。 图11为根据本发明该另一例示性实施例之测试头 及定位器系统之透视图。 图12为图11所示之测试头及定位器系统之另一透视 图。 图13为与图11及图12中所示之例示性实施例配合使 用之固持块之透视图。 图14为与图12及图13中所示之例示性实施例配合使 用之调整螺母总成之透视图。 图15为根据图11及图12所示之例示性实施例来使用 之校平器机构之分解图。 图16A-16C图解说明各种方位之图15之校平器机构。 图17A-17E为图11及图12中所示之测试头及定位器系 统之侧视图,其中测试头与关节处于各自不同的组 态。 图18为展示根据图2A-2C、图3及图4中所示之例示性 实施例之滚动锁定板及测试头安装板之透视图。 图19为图解说明图10A-10D、图11-16及图17A-17D之另一 例示性实施例之透视图,且其另外展示如何结合定 位器系统来使用上述图式中所示之结构。 图20、图21、图22及图23为合并两个远轴枢轴关节 以提供两个旋转轴之四个组态的透视图。 图24A-24D为展示先前技术之摇架内之测试头之先前 技术的视图。 |
