发明名称 偏光板及偏光板之制造方法,暨使用该偏光板之液晶面板、液晶电视及液晶显示装置
摘要 本发明系提供在偏光片的至少一侧上具备聚醯亚胺层的偏光板,其系即使在高温/高湿环境下,亦不会于所形成的各膜上产生剥离或浮起之耐久性优异偏光板。本发明之偏光板系具备有:偏光片;及透过黏接剂层黏贴到偏光片之至少一侧的保护膜。保护膜系具有透明膜层和聚醯亚胺层的积层膜,偏光片和保护膜系以聚醯亚胺层与偏光片相对之方式,进行黏贴。
申请公布号 TWI266087 申请公布日期 2006.11.11
申请号 TW094133336 申请日期 2005.09.26
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 长濑纯一;村上奈穗
分类号 G02B5/30(2006.01);G02F1/133(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号1112室;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号1112室
主权项 1.一种偏光板,系具备有:偏光片;及透过黏接剂层 黏贴到上述偏光片之至少一侧的保护膜, 上述保护膜系具有透明膜层和聚醯亚胺层的积层 膜, 上述偏光片和上述保护膜系以上述聚醯亚胺层与 上述偏光片相对之方式,进行黏贴。 2.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述偏光 片系由以含有二色性物质之聚乙烯醇系树脂作为 主要成分之高分子膜之延伸膜所构成。 3.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述透明 膜层系由以纤维素系树脂作为主要成分的高分子 膜所构成。 4.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述保护 膜系进一步在上述透明膜层和上述聚醯亚胺层之 间具有结合(anchor coat)层。 5.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述聚醯 亚胺层的厚度为1至10m。 6.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述聚醯 亚胺层系由以含氟聚醯亚胺作为主要成分的膜所 构成。 7.如申请专利范围第6项之偏光板,其中,上述含氟 聚醯亚胺系具有以下述式(1)所示之重复单元的聚 醯亚胺: 8.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述聚醯 亚胺层在23℃下使用波长590 nm的光所测量的透光 率为90%以上。 9.如申请专利范围第5项之偏光板,其中,上述聚醯 亚胺层在23℃下使用波长590 nm的光所测量之厚度 方向的相位差値Rth[590]系50至800 nm。 10.如申请专利范围第1项之偏光板,其中,上述黏接 剂层系由以具有乙醯乙醯(aceto acetyl)基之改质聚 乙烯醇作为主要成分的水溶性黏接剂所构成。 11.如申请专利范围第5项之偏光板,其中,上述黏接 剂层系由以具有乙醯乙醯基之改质聚乙烯醇作为 主要成分的水溶性黏接剂所构成。 12.一种偏光板之制造方法,系包含以下步骤: 将聚醯亚胺溶液涂布到透明膜表面上,使之进行乾 燥,从而得到具有透明膜层和聚醯亚胺层的积层膜 之步骤;及 以上述聚醯亚胺层与上述偏光片相对之方式,透过 黏接剂黏贴上述积层膜和偏光片之步骤。 13.如申请专利范围第12项之偏光板之制造方法,其 中,在上述得到积层膜的步骤和上述黏贴步骤之间 ,进一步包含对上述聚醯亚胺层表面进行改质处理 的步骤。 14.如申请专利范围第13项之偏光板之制造方法,其 中,上述表面改质处理系由电晕处理、辉光放电处 理、火焰处理、臭氧处理、UV臭氧处理、紫外线 处理及硷处理所构成群组中选出之至少一种。 15.如申请专利范围第12项之偏光板之制造方法,其 中,上述黏接剂系以具有乙醯乙醯基之改质聚乙烯 醇作为主要成分的水溶性黏接剂。 16.如申请专利范围第12项之偏光板之制造方法,其 中,上述聚醯亚胺层形成为具有1至10m之厚度。 17.一种液晶面板,系具备申请专利范围第1项之偏 光板和液晶单元。 18.如申请专利范围第17项之液晶面板,其中,上述液 晶单元系TN模式、VA模式、IPS模式或OCB模式。 19.一种液晶电视,系包含申请专利范围第17项之液 晶面板。 20.一种液晶显示装置,系包含申请专利范围第17项 之液晶面板。 图式简单说明: 图1A~1F系用以说明本发明之代表性实施形态之偏 光板的概略剖面图。 图2系说明本发明所使用之偏光片之代表性制造步 骤之概要的示意图 图3系说明本发明之制造方法中,聚醯亚胺溶液的 涂布步骤和表面改质处理步骤之概要的示意图。 图4系例示本发明之制造方法中,表面改质处理步 骤为采用湿式处理之情况的示意图。 图5系说明本发明之制造方法中,积层膜和偏光片 的贴合步骤之概要的示意图。 图6系本发明之较佳实施形态之液晶面板的概略剖 面图。 图7A~7F系说明本发明之液晶面板中,偏光板之代表 性配置之概略立体图。 图8系针对本发明之实施例之偏光板和比较例之偏 光板,进行比较温水试验之结果而所显示之照片。
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