| 摘要 |
<p>Использование: в оптическом приборостроении, в фотолитографической микроэлектронной промышленности, и, в частности, для контроля фотолитографических объектов, кремниевых пластин и т.п. Задача: улучшение оптических параметров объектива за счет уменьшения дисторсии и увеличения, телецентричности, переднего отрезка и линейного поля, а также улучшение качества оптического изображения за счет уменьшения среднеквадратической деформации волнового фронта и увеличения апертуры. Сущность: объектив фотоэлектрического микроскопа для ультрафиолетовой области спектра с тубусом бесконечность, содержащий линзы из одного кварцевого стекла, состоящий из группы из не менее трех положительных менисков, обращенных вогнутостью к объекту, группы из трех двояковыпуклых линз и двояковогнутой линзы, снабжен дополнительной трехлинзовой группой с отрицательной оптической силой - φ<Sub>g</Sub>=-(0,25÷0,3)φ, где φ - оптическая сила всего объектива, установленной за двояковогнутой линзой, и мениском, установленным выпуклостью к плоскости объекта между группами из двояковыпуклых линз и положительных менисков, при этом оптическая сила мениска φ<Sub>m</Sub> удовлетворяет условию φ<Sub>m</Sub>=-(0,06÷0,08)φ, при этом группа из положительных менисков содержит четыре линзы, и имеет оптическую силу φ<Sub>1</Sub>=(0,2÷0,25)φ, оптическая сила φ<Sub>2</Sub> группы из трех двояковыпуклых линз удовлетворяет условию φ<Sub>2</Sub>=(0,12÷0,18)φ, оптическая сила двояковогнутой линзы φ<Sub>3</Sub> удовлетворяет условию φ<Sub>3</Sub>=-(0,07÷0,09)φ, дополнительная трехлинзовая группа выполнена из двояковогнутой линзы, мениска, </p>
<p>установленного вогнутостью к объекту и двояковыпуклой линзы, при этом оптические силы линз удовлетворяют условию: φ<Sub>1g</Sub>=-(0,1÷0,13)φ φ<Sub>2g</Sub>=-(0,15÷0,19)φ φ<Sub>3g</Sub>=(0,02÷0,04)φ, где φ<Sub>1g</Sub> - оптическая сила двояковогнутой линзы, φ<Sub>2g</Sub> - оптическая сила мениска, φ<Sub>3g</Sub> - оптическая сила двояковыпуклой линзы. 1 н.п. ф-лы, 1 илл.</p> |
