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发明名称 EINRICHTUNG ZUR PLASMAVERARBEITUNG
摘要
申请公布号 DE60209697(T2) 申请公布日期 2006.11.09
申请号 DE2002609697T 申请日期 2002.03.28
申请人 TOKYO ELECTRON LTD.;OHMI, TADAHIRO 发明人 OHMI, TADAHIRO;HIRAYAMA, M.;SUGAWA,;GOTO, T.
分类号 H01L21/31;H05H1/46;B01J19/08;C23C16/511;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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