发明名称 |
集成电路布局数据的处理方法 |
摘要 |
一种集成电路布局数据的处理方法,具有若干个阶层的第一集成电路布局数据是依照阶层架构将一集成电路布局储存于其中,其中该第一集成电路布局数据具有若干个阶层,该处理方法至少包含:读取第一集成电路布局数据,将集成电路布局分割成若干个面积小于九万平方微米的区域。榨平各区域所对应的第一集成电路布局数据的最末相同预定层数的阶层,该相同预定层数不大于十,并以阶层架构重新组合各榨平后的第一集成电路布局数据,得到一第二集成电路布局数据。对第二集成电路布局数据进行逻辑操作,得到一第三集成电路布局数据,最后光学近似校正第三集成电路布局数据。 |
申请公布号 |
CN1284228C |
申请公布日期 |
2006.11.08 |
申请号 |
CN200310121633.X |
申请日期 |
2003.12.31 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
洪齐元 |
分类号 |
H01L21/82(2006.01);H01L27/00(2006.01);G06F17/50(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/82(2006.01) |
代理机构 |
上海新高专利商标代理有限公司 |
代理人 |
竺明;谢晋光 |
主权项 |
1.一种集成电路布局数据的处理方法,一集成电路布局是依照阶层架构储存成一第一集成电路布局数据,其中该第一集成电路布局数据具有若干个阶层,该处理方法至少包含:将该集成电路布局分割成若干个区域,该些区域的面积小于九万平方微米;榨平各区域所对应的第一集成电路布局数据的最末相同预定层数的阶层,该相同预定层数不大于十;以阶层架构重组各榨平后的第一集成电路布局数据,得到一第二集成电路布局数据:对该第二集成电路布局数据进行逻辑操作,得到一第三集成电路布局数据;以及光学近似校正该第三集成电路布局数据。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号 |