灰调掩模的制造方法

摘要

提供一种可以制造高品质的TFT的中间色彩膜类型的灰调掩模的制造方法，具有下述工序：准备在透明基板(21)上顺序形成半透光膜(22)和遮光膜(23)的掩模坯料的工序；在该掩模坯料上形成抗蚀膜的工序；采用由设定为进行图形描绘的曝光装置的分辨率限度以下的图形数据和用于形成透光部及遮光部的图形数据合成的图形数据对所述抗蚀膜进行图形描绘，对所述抗蚀膜的形成半透光部的部分进行曝光量的调节和进行曝光的工序；进行显影处理，形成使形成遮光部的部分和形成半透光部的部分的抗蚀剂残留膜的值不同的抗蚀图形(24a)的工序；把该抗蚀图形(24a)作为掩模，蚀刻遮光膜(23)和半透光膜(22)并形成透光部的工序；仅去除残留在半透光部上的抗蚀图形的工序；把所残留的抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜(23a)并形成半透光部的工序。

主权项

1.一种灰调掩模的制造方法，该灰调掩模具有遮光部、透光部和半透光部，其特征在于，具有下述工序：准备在透明基板上至少顺序形成半透光膜和遮光膜的掩模坯料的工序；在所述掩模坯料上形成抗蚀膜的工序；采用由设定为进行图形描绘的曝光装置的分辨率限度以下的图形数据和用于形成透光部及遮光部的图形数据合成的图形数据对所述抗蚀膜进行图形描绘，对所述抗蚀膜上的形成半透光部的部分进行曝光量的调节和进行曝光的工序；进行所述抗蚀膜的显影处理，形成使形成遮光部的部分和形成半透光部的部分的抗蚀剂残留膜的值不同的抗蚀图形的工序；把所述抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜和半透光膜并形成透光部的工序；仅去除残留在所述半透光部上的抗蚀图形的工序；把在所述工序残留的抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜和半透光膜的层压膜的一部分并形成半透光部的工序。