发明名称 气体扩散处理装置
摘要 本发明提供一种容易大型化的高效率的气体扩散处理装置,其由于气液的混合搅拌效率的提高,而实现高性能化、省能量化、省空间化,且不需要维修。气体扩散处理装置(15)配置有:实质上垂直配置的筒状的通路管(8),内设有静止型混合器(9),流体沿纵长方向流通;气体喷出部(12),位于通路管(8)的下端侧,将气体经由气力输送路线(11)喷出供给到通路管(8)内,在气体喷出部(12)上配置有静止型混合器(13),从气体喷出部(12)供给气体,并将液体从通路管(8)的下方侧的液体导入部(14)导入通路管(8)内,气体及液体在通路管(8)内并流上升,两者在通路管(8)的内部气液接触混合,从通路管(8)的上端侧排到液体中。
申请公布号 CN1859967A 申请公布日期 2006.11.08
申请号 CN200380110621.5 申请日期 2003.10.29
申请人 风神有限公司 发明人 小岛久夫
分类号 B01F5/02(2006.01);B01F5/00(2006.01);B01D53/18(2006.01);B01D53/34(2006.01);C02F3/20(2006.01);C02F3/22(2006.01) 主分类号 B01F5/02(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张天安
主权项 1.一种气体扩散处理装置,其特征在于,配置有:实质上垂直配置的筒状的通路管,内设有静止型混合器,流体沿纵长方向流通;气体喷出部,位于前述通路管的下端侧,将气体经由气力输送路线喷出供给到前述通路管内,在前述气体喷出部上配置有喷雾嘴,将气体供给到前述气体喷出部,并将液体从前述通路管的下方侧导入前述通路管内,前述气体及液体在前述通路管内并流上升,两者在前述通路管的内部气液接触混合,从前述通路管的上端侧排到液体中。
地址 日本东京都