蓝宝石衬底材料抛光液及其制备方法

摘要

本发明涉及蓝宝石衬底材料表面高精密加工过程中化学机械抛光(CMP)抛光液及其制备方法。抛光液成分和重量％比组成为：硅溶胶1～90、碱性调节剂0.25～5、醚醇类活性剂0.5～10、螯合剂1.25～15、去离子水为余量。该抛光液的配制方法：硅溶胶用不同倍数的去离子水稀释用碱性调节剂调整pH值，然后边搅拌边加入醚醇类活性剂。在相应的抛光工艺条件下进行抛光，可实现蓝宝石衬底材料表面的高精密加工，并能满足工业上对蓝宝石衬底片CMP精密加工的要求。本发明具有成本低、低粗糙、高速率、不污染环境及腐蚀设备的优点。

主权项

1.一种蓝宝石衬底材料抛光液，其特征是，所述抛光液成分和重量％比组成如下：硅溶胶 1～90； 碱性调节剂 1.5～20；醚醇类活性剂0.5～10； 去离子水 余量。