发明名称 |
衬底保持装置、衬底处理设备以及释放衬底的方法 |
摘要 |
一种衬底处理设备中的衬底保持装置,包括固定台,它具有一抽吸管和供气管;以及具有用来真空保持衬底的大气流通道的保持元件。保持元件被安置在固定台上。抽吸管通过一管子与压缩机相连,供气管通过管子和电磁线与气体供气部件相连。当衬底保持装置保持住衬底时,压缩机通过抽吸管抽吸大气,使保持元件真空保持住该衬底。当衬底保持装置释放衬底时,在通过抽吸管继续抽吸大气的同时,打开电磁阀通过供气管从气体供气部件供应一种气体。该衬底保持装置和衬底处理设备可抑制颗粒淀积在衬底上。 |
申请公布号 |
CN1284220C |
申请公布日期 |
2006.11.08 |
申请号 |
CN03158477.2 |
申请日期 |
2003.09.11 |
申请人 |
大日本屏影象制造株式会社 |
发明人 |
中泽喜之 |
分类号 |
H01L21/68(2006.01);B65G49/07(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/68(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
肖春京 |
主权项 |
1.一种用于保持衬底的衬底保持装置,包括:保持元件,其具有用来保持所述衬底的大气流通道;抽吸管,用来通过所述大气流通道抽吸大气;供气管,用来通过所述大气流通道供给预定气体;其中当从所述保持元件释放衬底时,通过所述供气管供给所述预定气体,同时通过所述抽吸管抽吸所述大气,所述预定气体的供气速率不小于所述大气的抽吸速率。 |
地址 |
日本京都府京都市 |