| 发明名称 | 用于原位轮廓测量的涡流系统 | ||
| 摘要 | 一种涡流监视系统可以包括细长形铁心。一个或多个线圈可以与细长形铁心耦合以产生振荡磁场，该振荡磁场可以与晶片上的一个或多个导电区域耦合。铁心可以相对于晶片平移以在保持足够信号强度的同时提供更高的分辨率。一种涡流监视系统可以包括DC耦合的边际振荡器用于以谐振频率产生振荡磁场，其中谐振频率可以随着一个或多个导电区域的改变而改变。涡流监视系统可以用于实现实时轮廓控制。 | ||
| 申请公布号 | CN1860584A | 申请公布日期 | 2006.11.08 |
| 申请号 | CN200480028368.3 | 申请日期 | 2004.07.27 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 格布里尔·罗里米尔·米勒;博古斯劳·A·司维德克;曼欧彻尔·比郎 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);G01B7/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷 |
| 主权项 | 1.一种用于化学机械抛光的装置，包括：用于支撑抛光表面的台板；产生涡流信号的涡流监视系统，所述涡流监视系统包括：至少部分位于所述台板中的细长形铁心，所述细长形铁心具有长度和宽度，所述长度比所述宽度更长。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||