| 发明名称 |
Positive photosensitive resin compositions |
| 摘要 |
An end-capped polybenzoxazole precursor having acid labile functional groups, positive working photosensitive compositions thereof and use of the compositions for producing heat resistant relief images on substrates.
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| 申请公布号 |
US7132205(B2) |
申请公布日期 |
2006.11.07 |
| 申请号 |
US20040860784 |
申请日期 |
2004.06.03 |
| 申请人 |
ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. |
发明人 |
RUSHKIN ILYA;NAIINI AHMAD A.;HOPLA RICHARD;WATERSON PAMELA J.;WEBER WILLIAM D. |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/30 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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