Vorrichtung zur Reinigung von Wafern nach dem CMP-Prozeß,申请号DE20031094095-传众专利搜索

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发明名称	Vorrichtung zur Reinigung von Wafern nach dem CMP-Prozeß
摘要
申请公布号	DE10394095(D2)	申请公布日期	2006.11.02
申请号	DE20031094095	申请日期	2003.07.09
申请人	RENA SONDERMASCHINEN GMBH	发明人	WEBER, MARTIN;BUERGER, NORBERT
分类号	H01L21/00	主分类号	H01L21/00
代理机构		代理人
主权项
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