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发明名称 IMPROVED PROCESS GAS DISTRIBUTION FOR FORMING STABLE FLUORINE-DOPED SILICATE GLASS AND OTHER FILMS
摘要
申请公布号 KR100641966(B1) 申请公布日期 2006.11.02
申请号 KR20000043368 申请日期 2000.07.27
申请人 发明人
分类号 C23C16/30;C23C16/40;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/316 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
主权项
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