| 主权项 |
1.一种场发射光源模组,其包含:一阴极板,其上具有一电子发射源,用以发射一电子束;一阳极板,其上具有一阳极电极层及一萤光层;一真空结构,形成于该阴极板与该阳极板之间,其中该阳极电极层及该萤光层位于该真空结构中;以及一反射层,形成于该阳极板非真空结构之一侧,以形成一镜面结构;其中,该电子束受该阳极电极层作用而撞击该萤光层以产生一光源,该光源之一部份穿透该阳极板后由该镜面结构所反射,并从该阴极板侧发出,以提升该场发射光源模组之亮度。2.如申请专利范围第1项之场发射光源模组,其中该阳极板与该阴极板系由一透光基板所构成。3.如申请专利范围第1项之场发射光源模组,其中该反射层系为具反射率的一金属层。4.如申请专利范围第1项之场发射光源模组,其中该反射层系为具热传导率的一金属层。5.如申请专利范围第1项之场发射光源模组,其中该反射层外侧更包含一散热装置,以利该阳极板之散热。6.如申请专利范围第1项之场发射光源模组,其中该反射层系具膨胀系数,以平衡该阳极板受热后所产生的扭曲应力。7.一种场发射光源模组,其包含:一第一透光基板,其上具有一电子发射源,用以发射一电子束;以及一第二透光基板,在该第一透光基板一侧,该第二透光基板更包含:一电极层及一萤光层,形成于该第二透光基板与该第一透光基板之同侧;以及一反射层,系形成于该第二透光基板之另一侧,以形成一镜面结构;其中,该电子束受该电极层之吸引而撞击该萤光层,以产生一光源,该光源之一部份穿透该第二透光基板后由该镜面结构所反射,从该第一透光基板侧发射,以提升该场发射光源模组之亮度。8.如申请专利范围第7项之场发射光源模组,其中该第一与第二透光基板系为一导电玻璃。9.如申请专利范围第7项之场发射光源模组,其中该反射层系为具反射率的一金属层。10.如申请专利范围第7项之场发射光源模组,其中该反射层系为具热传导率的一金属层。11.如申请专利范围第7项之场发射光源模组,其中该反射层外侧更包含一散热装置,以利该第二透光基板之散热。12.如申请专利范围第7项之场发射光源模组,其中该反射层系具膨胀系数,以平衡该第二透光基板受热后所产生的扭曲应力。13.一种制作场发射平面光源模组之方法,其包含下列步骤:(1)提供一阴极板与一阳极板;(2)于该阴极板上,形成一阴极电极层;(3)于该阳极板之一侧面,依序形成一电极层以及一萤光层;以及(4)于该阳极板上之另一侧面,形成一反射层。14.申请专利范围第13项所述之方法,其中步骤(4)系利用沉积制程形成该反射层。15.申请专利范围第14项所述之方法,其中该沉积制程为溅镀、电镀、无电镀、蒸镀制程其中之一。16.申请专利范围第13项所述之方法,其中步骤(4)系利用贴合(bonding)制程形成该反射层。图式简单说明:第1图系表示习知的一穿透式场发射平面光源结构的具体实施例。第2图表示根据本发明之一反射式场发射平面光源结构的具体实施例。第3图(A)系表示习知的穿透式场发射平面光源结构在萤光层上所产生的光线的传送路径。第3图(B)系表示本发明的反射式场发射平面光源结构于萤光层上所产生的光线的传送路径。第4图表示根据本发明之反射式场发射平面光源结构的制程方法。 |
