| 主权项 |
1.一种彩色有机EL显示器,包含:一基板;一滤色层,位于该基板上;一气体障壁层,位于该滤色层上;以及一有机EL结构体,位于该气体障壁层上,其中该基板和该滤色层提供为该气体障壁层的一底层,该底层是一除气底层,以及该气体障壁层是以一原子层沉积法在等于或低于该滤色层的分解启始温度提供。2.如申请专利范围第1项之显示器,进一步包含:一上涂布层,位于该滤色层与该气体障壁层之间,使得该基板、该滤色层、和该上涂布层提供为该气体障壁层的底层,其中该上涂布层是以有机材料制成,以及该气体障壁层是以该原子层沉积法在等于或低于该上涂布层的分解启始温度提供。3.如申请专利范围第2项之显示器,其中该滤色层和该上涂布层是在摄氏200度的真空中,藉由释放水分子排除气体,以及该被释放的水分子浓度是等于或小于每立方毫米(mm3)内21016个分子。4.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该气体障壁层是以Al2O3,TiO2,SiN,SiO2,SiON,ZrO2,MgO,CaO,GeO2,HfO2和ZnO组成之群中选出的至少一种材料制成。5.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该气体障壁层的膜厚度等于或薄于100毫微米。6.如申请专利范围第5项之显示器,其中该气体障壁层的膜厚度等于或薄于60毫微米。7.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该气体障壁层是以包括一Al2O3层和一TiO2层的多层膜制成。8.如申请专利范围第7项之显示器,其中该气体障壁层中Al2O3层的膜总厚度定义为X,该气体障壁层中TiO2层的膜总厚度定义为Y,以及厚度X和Y的关系为37≧3108X+1.4109Y。9.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该气体障壁层的底层具有等于或小于10度的水滴接触角度。10.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该基板是以树脂制成。11.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,进一步包含:一SiO2层,其中该有机EL结构体包括一透明的导电膜,以及该SiO2层位于该气体障壁层与该透明导电膜之间,使得该气体障壁层与该透明导电膜之间的黏着性增加。12.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该气体障壁层包括一第一膜和一第二膜,并以此顺序堆叠,该第一膜能够阻隔该底层产生的气体,以及该第二膜具有抗化学物质的特性,该化学物质于该气体障壁层覆盖该滤色层之后使用。13.如申请专利范围第12项之显示器,其中该气体障壁层的第一膜是以Al2O3,TiO2,SiN,SiO2,SiON,ZrO2,MgO,CaO,GeO2,HfO2和ZnO组成之群中选出的至少一种材料制成。14.如申请专利范围第12项之显示器,其中该气体障壁层的第二膜是由难以连接至提供氢氧化物的一氢氧根群之材料制成。15.如申请专利范围第14项之显示器,其中该气体障壁层的第二膜是以TiO2,SiN,SiO2,SiON和Ta2O5组成之群中选出的至少一种材料制成。16.如申请专利范围第12项之显示器,其中该气体障壁层中第二膜的厚度是等于或大于5毫微米。17.如申请专利范围第12项之显示器,进一步包括:一绝缘层,其中该气体障壁层的第二膜具有导电性,以及该绝缘层位于该第二膜与该有机EL结构体之间。18.如申请专利范围第17项之显示器,其中该绝缘层是以SiN,SiO2,SiON,Ta2O5,AlN,MgO,CaO和GeO2组成之群中选出的至少一种材料制成。19.如申请专利范围第1项之显示器,其中该基板是以非硷性的玻璃制成。20.如申请专利范围第1-3项中任一项之显示器,其中该基板包括一玻璃基板和一无机膜。该无机膜覆盖着该玻璃基板,以及该无机膜不包括硷性的组份。21.一种彩色有机EL显示器的制造方法,该彩色有机EL显示器包含一基板、一滤色层、一气体障壁层、以及一有机EL结构体,并以此顺序堆叠,其中该基板和该滤色层提供为该气体障壁层的一底层,该方法包括以下的步骤:将该气体障壁层的底层排除气体;以及以一原子层沉积法形成该气体障壁层,其中复数的原料气体是在降低的压力下,以及等于或低于该滤色层的分解启始温度下交替地导入该基板上。22.如申请专利范围第21项之方法,进一步包括:形成一上涂布层,位于该滤色层与该气体障壁层之间,使得该基板、该滤色层、和该上涂布层提供为该气体障壁层的底层,其中该上涂布层是以有机材料制成,以及该气体障壁层是在等于或低于该上涂布层的分解启始温度下形成。23.如申请专利范围第21项之方法,其中该排除气体的步骤是在等于或低于该滤色层的分解启始温度,以及在该排除气体步骤之后等于或高于施加至该基板的温度下进行。24.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该排除气体的步骤是在乾燥的气体环境中进行。25.如申请专利范围第22项之方法,其中该排除气体步骤是将该滤色层和该上涂布层在真空中加热至摄氏200度,以及该排除气体的步骤得到控制以维持已排除气体的水分子数目等于或少于每立方毫米(mm3)内21016个分子。26.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该基板于该排除气体的步骤之后以及该形成气体障壁层的步骤之前,是保存在乾燥的气体环境中。27.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层是在等于或高于该形成该气体障壁层的步骤之后施加至该基板的温度下形成。28.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层是以Al2O3,TiO2,SiN,SiO2,SiON,ZrO2,MgO,CaO,GeO2,HfO2和ZnO组成之群中选出的至少一种材料制成。29.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层是以包括一Al2O3层和一TiO2层的多重膜制成。30.如申请专利范围第29项之方法,其中该气体障壁层中Al2O3层的膜总厚度定义为X,该气体障壁层中TiO2层的膜总厚度定义为Y,以及厚度X和Y的关系为37≧3108X+1.4109Y。31.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层的底层具有等于或小于10度的水滴接触角度。32如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层包括一第一膜和一第二膜,并以此顺序堆叠,该第一膜能够阻隔该底层产生的气体,以及该第二膜具有抗化学物质的特性,该化学物质于该气体障壁层形成的步骤之后使用。33.如申请专利范围第32项之方法,其中该气体障壁层的第一膜是以Al2O3,TiO2,SiN,SiO2,SiON,ZrO2,MgO,CaO,GeO2,HfO2和ZnO组成之群中选出的至少一种材料制成。34.如申请专利范围第32项之方法,其中该气体障壁层的第二膜是以TiO2,SiN,SiO2,SiON和Ta2O5组成之群中选出的至少一种材料制成。35.如申请专利范围第21-23项中任一项之方法,其中该气体障壁层是在等于或高于摄氏200度的温度下形成。图式简单说明:图1是根据本发明之一第一实施例呈现一彩色有机EL显示器的截面图;图2是从图1中沿着直线II-II截取该显示器的截面图;图3是根据该第一实施例中解释TDS分析结果的图形;图4是根据该第一实施例中呈现排除气体步骤的烘烤时间与已排除气体的水分子数目之间关系的图形;图5是根据该第一实施例中呈现膜厚度与一TiO2/Al2O3多层膜内总应力之间关系的图形;图6是根据本发明之一第二实施例呈现一彩色有机EL显示器的截面图;图7是根据本发明之一第三实施例呈现一彩色有机EL显示器的截面图;图8是根据该第一实施例呈现不同的样本中一气体障壁层内微小洞隙数目之表格;图9是根据该第一实施例呈现不同的排除气体状况下该气体障壁层剥落之表格;图10是根据该第一实施例呈现具有不同膜厚度的气体障壁层内裂痕情形之表格;图11是根据该第一实施例呈现不同的洁净状况下各种接触角度的平均之表格;以及图12是根据该第一实施例呈现不同的固定状况与不同的洁净状况下该气体障壁层剥落之表格。 |
