| 主权项 |
1.一种平衡式足底支撑结构,包含:一第一支撑条,支撑于人体足部之第一跖骨下方至第五跖骨前端下方;一第二支撑条,支撑于人体足部之第一跖骨前端下方至第五跖骨末段下方;一第三支撑条,支撑于人体足部之第五跖骨末段下方至舟状骨与跟骨交接处外缘下方;及一第四支撑条,支撑于人体足部之方形骨及舟状骨分别与跟骨之交接处下方。2.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条概呈M字形。3.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中更包含一第五支撑条与一第六支撑条与该第四支撑条形成三角形,且该第五支撑条与该第六支撑条之相近端位置,对应于人体足部之跟骨底部。4.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条之相近端连结为一体。5.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条呈直线状。6.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条呈弧线状。7.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中更包含可置入于鞋子中之一鞋垫,该等支撑条系位于该鞋垫顶面上。8.如申请专利范围第7项所述之平衡式足底支撑结构,其中该鞋垫与该等支撑条成可分离、可调式的结合。9.如申请专利范围第8项所述之平衡式足底支撑结构,其中该鞋垫具有复数接孔,该等支撑条分别具有至少一接柱供于该等接孔嵌合。10.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中更包含一鞋底用以直接接触地面,该等支撑条系位于该鞋底之顶面上。11.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条呈半圆柱状。12.如申请专利范围第1项所述之平衡式足底支撑结构,其中该等支撑条具有黏胶,供与人体足部或鞋材结合。13.一种平衡式足底支撑方法,提供复数支撑条于人体足部之下列位置:(a)第一跖骨下方至第五跖骨前端下方;(b)第一跖骨前端下方至第五跖骨末段下方;(c)第五跖骨末段下方至舟状骨与跟骨交接处外缘下方;及(d)方形骨及舟状骨分别与跟骨之交接处下方。14.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条概呈M字形。15.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中更包含提供二个该等支撑条于下列位置:(e)方形骨与跟骨交接处外缘下方至跟骨下方;及(f)舟状骨与跟骨交接处外缘下方至跟骨下方。16.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条之相近端连结为一体。17.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条呈直线状。18.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条呈弧线状。19.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中更包含可置入于鞋子中之一鞋垫,该等支撑条系位于该鞋垫顶面上。20.如申请专利范围第19项所述之平衡式足底支撑方法,其中该鞋垫与该等支撑条成可分离、可调式的结合。21.如申请专利范围第20项所述之平衡式足底支撑方法,其中该鞋垫具有复数接孔,该等支撑条分别具有至少一接柱供于该等接孔嵌合。22.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中更包含一鞋底用以直接接触地面,该等支撑条系位于该鞋底之顶面上。23.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条呈半圆柱状。24.如申请专利范围第13项所述之平衡式足底支撑方法,其中该等支撑条具有黏胶,供与人体足部或鞋材结合。图式简单说明:第1图系先前技术中人体足部压力测试图;第2图系先前技术中足底支撑技术之使用状态图一;第3图系先前技术中足底支撑技术之使用状态图二;第4图系先前技术中足底支撑技术之使用状态图三;第5图系本发明第一实施例之使用状态图;第6图系本发明第二实施例之立体外观图;第7图系本发明第三实施例之立体分解图;第8图系本发明第四实施例之立体外观图;及第9图系本发明第五实施例之使用状态图。 |
