发明名称 造水方法及造水装置
摘要 本发明系有关一种造水方法,其包括用逆渗透膜模组分离含硼之水以制得透过水的步骤,使用吸附剂对部分所得之透过水进行硼去除处理的步骤,以及使经硼去除处理之水与该透过水中没有经硼去除处理之水混合而制得混合水。本发明系提供一种自含硼之水中去除硼的经济造水方法及造水装置。
申请公布号 TWI265045 申请公布日期 2006.11.01
申请号 TW092101188 申请日期 2003.01.21
申请人 东丽股份有限公司 发明人 西川毅;木原正浩;北出有;杉浦
分类号 B01D61/02(2006.01) 主分类号 B01D61/02(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种造水方法,其包括用逆渗透膜模组分离含硼之水以制得透过水的步骤,使用吸附剂对部分所得之透过水进行硼去除处理的步骤,以及使经硼去除处理之水与该透过水中没有经硼去除处理之水混合而制得混合水。2.如申请专利范围第1项之造水方法,其中具有使用至少2个逆渗透膜模组,使部分第1逆渗透膜模组所得的透过水以第2逆渗透膜模组处理的步骤。3.如申请专利范围第2项之造水方法,其中对部分以第2逆渗透膜模组所得的浓缩水进行硼去除处理。4.如申请专利范围第2项之造水方法,其中第1逆渗透膜模组中使用具有使25℃、pH値6.5、浓度35,700mg/L之食盐水以5.5MPa供应时盐排出率为90%以上性能的逆渗透膜,第2逆渗透膜模组中使用具有使25℃、pH値6.5、浓度1500mg/L之食盐水以1.5MPa供应时之透过流束为0.8m3/m2日以上性能的逆渗透膜。5.如申请专利范围第2项之造水方法,其中第2逆渗透膜模组之供应侧的pH値为9以上。6.如申请专利范围第1项之造水方法,其中具有使用至少2个逆渗透膜模组,使至少部分以第1逆渗透膜模组所得的浓缩水以第2逆渗透膜模组处理的步骤。7.如申请专利范围第6项之造水方法,其中对第2逆渗透膜模组所得的透过水的至少一部分进行硼去除处理。8.如申请专利范围第1项之造水方法,其中控制进行硼去除处理之水与没有进行硼去除处理之水的流量比例,能所欲水质的混合水。9.如申请专利范围第1项之造水方法,其中处理硼浓度为3mg/L以上之原水。10.一种造水装置,其包括水之升压机构,使升压过的水分离成浓缩水与透过水之逆渗透膜模组,自逆渗透膜模组之处理水以吸附剂去除硼之硼去除机构,其中该透过水中没有通过硼去除机构之水的流路,及使通过硼去除机构之水与该透过水中没有通过硼去除机构之水混合的混合机构。11.如申请专利范围第10项之造水装置,其中没有通过硼去除机构之水的流路为硼去除机构之旁通管。12.如申请专利范围第10项之造水装置,其中具有数个并列的逆渗透膜模组,且部分该数个逆渗透膜模组连接硼去除机构,残余的逆渗透膜模组连接于没有通过硼去除机构之水的流路。13.如申请专利范围第10项之造水装置,其中具有至少2个逆渗透膜模组,且第2逆渗透膜模组连接于第1逆渗透膜模组之透过水侧。14.如申请专利范围第13项之造水装置,其中在第2逆渗透膜模组之浓缩水侧连接硼去除机构。15.如申请专利范围第13项之造水装置,其中第1逆渗透膜模组具备使25℃、pH値6.5、浓度35,700mg/L之食盐水以5.5MPa供应时盐排出率为90%以上性能的逆渗透膜,第2逆渗透膜模组中具备使25℃、pH値6.5、浓度1500mg/L之食盐水以1.5MPa供应时透过流束为0.8m3/m2日以上性能的逆渗透膜。16.如申请专利范围第13项之造水装置,其中在第1逆渗透膜模组与第2逆渗透膜模组间具有调整水之pH値的pH値调整机构。17.如申请专利范围第13项之造水装置,其中更包括使第2逆渗透膜模组之浓缩水逆渗透处理,将浓缩水供应给硼去除机构之第3逆渗透膜模组。18.如申请专利范围第10项之造水装置,其中具有至少2个逆渗透膜模组、且第2逆渗透膜模组连接于第1逆渗透膜模组之浓缩水侧。19.如申请专利范围第18项之造水装置,其中在第2逆渗透膜模组之透过水侧连接硼去除机构。20.如申请专利范围第10项之造水装置,其中具备调整通过硼去除机构之水与没有通过硼去除机构之水流量比例的调整机构。21.如申请专利范围第10项之造水装置,其中控制机构具备有测定水之硼浓度的测定机构,视所测定的硼浓度而定调整通过硼去除机构之水与没有通过硼去除机构之水流量比例的调整机构。图式简单说明:第1图系为习知造水装置的要部示意构造图。第2图至第14图及第17图至第20图系为表示本发明一实施形态之造水装置的要部示意构造图。第15图系为使部分第2图之逆渗透膜模组2分为2段式造水装置之部分构造图。第16图系为使部分第2图之逆渗透膜模组2分为2段式、且另设置无动力压缩机之造水装置的部分构造图。
地址 日本
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