发明名称 相变化光记录媒体
摘要 提供一种可高速录放的相变化光记录媒体,不仅再生信号的输出足够大,而且具有优良的重复抹写性能。在相变化光记录媒体中,由于在记录层的至少一侧的表面上形成Ge-Si-N材料构成的界面层,所以即使把熔点高的相变材料例如Bi-Ge-Te系相变材料用于记录层,再生信号的输出也能足够大,而且重复抹写性能优良。
申请公布号 TWI265512 申请公布日期 2006.11.01
申请号 TW093118411 申请日期 2004.06.25
申请人 日立麦克赛尔股份有限公司 发明人 柏仓章;碇喜博;宫本真;饭村诚;北垣直树;渡边丰;黑川真由美;小野寺园子
分类号 G11B7/24(2006.01) 主分类号 G11B7/24(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种用光束的照射进行资讯的录放的相变化光记录媒体,其特征在于具备用含Bi、Ge和Te的相变材料形成的记录层和用含Ge、Si和N的材料形成且接在所述记录层的至少一侧而形成的界面层。2.如申请专利范围第1项的相变化光记录媒体,其特征在于所述记录层内包含的Ge的含量是30原子%-50原子%。3.一种用光束的照射进行资讯的录放的相变化光记录媒体,其特征在于具备用含Ge、Sb和Te的相变材料形成的记录层和用含Ge、Si和N的材料形成且接在所述记录层的至少一侧而形成的界面层。4.如申请专利范围第3项的相变化光记录媒体,其特征在于所述记录层内包含的Ge的含量是30原子%-50原子%。5.如申请专利范围第3项的相变化光记录媒体,其特征在于所述记录层还含有Sn;所述记录层内包含的Ge含量与Sn含量之和是30原子%-50原子%。6.如申请专利范围第1-5项的任一项的相变化光记录媒体,其特征在于所述界面层内包含的Ge和Si的原子比Ge:Si是Ge:Si=90:10-40:60。7.如申请专利范围第6项的相变化光记录媒体的制造方法,其特征在于溅射形成所述界面层;溅射所述界面层时使用Ge和Si的原子比Ge:Si是Ge:Si=90:10-40:60的靶材。8.一种用光束的照射进行资讯的录放的相变化光记录媒体,其特征在于具备用含Bi、Ge和Te的相变材料形成的记录层和用含Ge、Si和N的材料形成且接在所述记录层的两侧而形成的界面层。9.如申请专利范围第1-5和第8项之任一项的相变化光记录媒体,其特征在于所述界面层的膜厚是1.5nm-15nm。10.如申请专利范围第1-5和第8项任一项的相变化光记录媒体,其特征在于所述界面层内所含的氮含量是20原子%、50原子%。图式简单说明:图1是按实施例1制作的相变化光记录媒体的示意性剖面图。图2是按比较例1制作的相变化光记录媒体的示意性剖面图。图3是按实施例2制作的相变化光记录媒体的示意性剖面图。图4是对按实施例2制作的相变化光记录媒体进行过104次重复抹写试验后的反射率变动量的示图。图5是按实施例2制作的相变化光记录媒体的膜剥离特性的结果的示图。图6是按实施例3制作的相变化光记录媒体的示意性剖面图。图7是对按实施例3制作的相变化光记录媒体进行过105次重复抹写试验后的抖动变动量的示图。图8是按实施例4制作的相变化光记录媒体的重复抹写试验的结果的示图。图9是按实施例5制作的相变化光记录媒体的重复抹写试验的结果的示图。图10是GeTe-Sb2Te3系材料的状态图。图11是GeTe-Bi2Te3系材料的状态图。图12是按实施例6制作的相变化光记录媒体的示意性剖面图。图13是按实施例6制作的相变化光记录媒体的重复抹写试验和反射率的结果的示图。图14是按实施例6制作的相变化光记录媒体的重复抹写试验和误差特性的结果的示图。
地址 日本