| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种曝光装置。在该曝光装置中，把GaN系列蓝色半导体激光器用作光源，其特征在于：构成为在把最接近所述蓝色半导体激光器的活性层的发光面的耦合透镜的孔径数设为NA，把来自所述发光面的光束扩散角度设为α时，满足NA·tan(α/2)≤2.0。 | ||
| 申请公布号 | CN1854886A | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
| 申请号 | CN200610076560.0 | 申请日期 | 2004.03.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 早川利郎;松本研司;森本美范;齐藤贤一 |
| 分类号 | G03B27/00(2006.01);G21K1/02(2006.01) | 主分类号 | G03B27/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，把GaN系列蓝色半导体激光器用作光源，其特征在于：构成为在把最接近所述蓝色半导体激光器的活性层的发光面的耦合透镜的孔径数设为NA，把来自所述发光面的光束扩散角度设为α时，满足下述条件，NA·tan(α/2)≤2.0。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||