| 发明名称 | 相移掩模对准方法和器件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及写入系统和工件的对准。具体来讲，其涉及采用SLM以在具有第一层图案的工件上写入第二层图案的对准。其延伸至制造掩模或标度片，以及采用所述掩模或标度片制造器件层。在权利要求书、说明书和附图中对本发明的具体方面进行说明。 | ||
| 申请公布号 | CN1856743A | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
| 申请号 | CN200480027518.9 | 申请日期 | 2004.08.03 |
| 申请人 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 发明人 | 托马斯·奥斯特洛姆;拉乌尔·泽尼 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G02B26/08(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种对准空间光调制器从而在工件上在第一层图案之上写入第二层图案的方法，其中，所述工件包括至少一个粗略对准标记，并且采用包括至少一个参考标记的台架支持所述工件，所述方法包括：采用从空间光调制器传递的光照照射所述粗略对准标记；采用摄像机检测所述粗略对准标记；检测所述参考标记；以及至少采用由所述参考标记和粗略对准标记的检测得到的信息计算所述工件和所述空间光调制器的对准。 | ||
| 地址 | 瑞典泰比 | ||