发明名称 |
有机晶体管、制造半导体器件和有机晶体管的方法 |
摘要 |
目的在于形成稠密且具有强绝缘电阻特性的高质量栅绝缘膜,并提出一种其中几乎没有隧道漏电流的高可靠性有机晶体管。本发明的有机晶体管的一个模式具有以下步骤:通过使用稠密等离子体用等离子激活来激活氧(或含氧的气体)或氮(或含氮的气体)等形成将变为栅极的导电层而形成栅绝缘膜,以及直接与将被绝缘的变为栅极的导电层的一部分反应,等离子体中的电子密度是10<SUP>11</SUP>cm<SUP>-3</SUP>或更大,且电子温度在0.2eV至2.0eV的范围内。 |
申请公布号 |
CN1855573A |
申请公布日期 |
2006.11.01 |
申请号 |
CN200610084049.5 |
申请日期 |
2006.04.25 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
今林良太;古川忍;矶部敦生;荒井康行;山崎舜平 |
分类号 |
H01L51/40(2006.01);H01L51/05(2006.01) |
主分类号 |
H01L51/40(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
郭广迅;林森 |
主权项 |
1.一种用于制造包括有机晶体管的半导体器件的方法,该用于制造半导体器件的方法包括:用等离子体形成有机晶体管的绝缘膜,其中电子密度是1011cm-3或更大,电子温度在0.2eV至2.0eV的范围内;和形成包括有机半导体材料的半导体层,以使半导体层与绝缘膜接触。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |