| 发明名称 | 用标准工艺制作磷硅酸玻璃层光波导及集成的方法 | ||
| 摘要 | 一种用标准工艺制作磷硅酸玻璃层光波导及集成的方法，其特征在于，其步骤包括：步骤1：在硅衬底上的中间生长二氧化硅层；步骤2：在硅衬底上、二氧化硅层的两端，分别制作阱和有源区，一端形成光源，另一端形成探测器；步骤3：在二氧化硅层上淀积磷硅酸玻璃层形成光波导，该阱和有源区分别与磷硅酸玻璃层耦合；步骤4：在磷硅酸玻璃层上淀积金属铝形成上包层；光源发出的光直接耦合进光波导，通过光波导传送到光探测器，并由光探测器转换成电信号。 | ||
| 申请公布号 | CN1854775A | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
| 申请号 | CN200510011606.6 | 申请日期 | 2005.04.21 |
| 申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 陈弘达;顾明;高鹏 |
| 分类号 | G02B6/13(2006.01) | 主分类号 | G02B6/13(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 1、一种用标准工艺制作磷硅酸玻璃层光波导及集成的方法，其特征在于，其步骤包括：步骤1：在硅衬底上的中间生长二氧化硅层；步骤2：在硅衬底上、二氧化硅层的两端，分别制作阱和有源区，一端形成光源，另一端形成探测器；步骤3：在二氧化硅层上淀积磷硅酸玻璃层形成光波导，该阱和有源区分别与磷硅酸玻璃层耦合；步骤4：在磷硅酸玻璃层上淀积金属铝形成上包层；光源发出的光直接耦合进光波导，通过光波导传送到光探测器，并由光探测器转换成电信号。 | ||
| 地址 | 100083北京市海淀区清华东路甲35号 | ||