成膜方法以及半导体器件和环状记录媒体的制造方法

摘要

提供一种成膜方法、半导体器件的制造方法、记录媒体的制造方法。在向被处理衬底上涡旋状供给药液进行成膜的技术中，抑制向被处理衬底外排出药液，同时形成均匀薄膜。所述被处理衬底与所述滴下部之间的相对移动是边旋转该衬底，边从该衬底的大约中心向该衬底的外周相对地移动所述滴下部，随着从所述被处理衬底的大约中心向外周的所述滴下部的相对移动，降低该衬底的转速，同时增加该滴下部来的所述液体的供给速度v，使该液膜不因滴下的液膜受到离心力而引起该液膜移动，并在被处理衬底上形成液膜。

主权项

1.一种成膜方法，是利用滴下液体的滴下部和位于该滴下部的垂直下方的被处理衬底，边将从该滴下部滴下到该衬底上的液体保留于该被处理衬底上，边相对地移动该被处理衬底或该滴下部，在被处理衬底上形成液膜的液膜形成方法，其特征在于：所述被处理衬底与所述滴下部之间的相对移动是一面旋转该衬底，一面从该衬底的内周部向该衬底的外周部相对地移动所述滴下部，将所述液体螺旋状滴下到所述被处理衬底上；随着从所述被处理衬底的内周部向外周部的所述滴下部的相对移动，要降低该衬底的转速w，同时增加从该滴下部来的所述液体的供给速度v，使之不因滴下的液膜所受的离心力而引起滴下的该液膜移动，并在所述被处理衬底上形成液膜，或者，所述被处理衬底与所述滴下部之间的相对移动是一面旋转该衬底，一面从该衬底的外周部向该衬底的内周部相对地移动上述滴下部，将所述液体螺旋状滴下到所述被处理衬底上；随着从所述被处理衬底的外周部向内周部的所述滴下部的相对移动，要增加该衬底的转速w，同时降低从该滴下部来的所述液体的供给速度v，使之不因滴下的液膜所受的离心力而引起滴下的该液膜移动，并在所述被处理衬底上形成液膜。