发明名称 Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauelements
摘要 Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Bauelements, insbesondere eines DRAM-Halbleiterspeichers oder eines Feldeffekttransistors, bei dem mindestens ein Kondensator (150) mit einem Dielektrikum (130) und zumindest einer Anschlusselektrode (120, 140) hergestellt wird. DOLLAR A Um zu erreichen, dass die hergestellten Kondensatoren auch bei sehr kleinen Kondensatorstrukturen ein möglichst gutes Speicherverhalten zeigen, ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass das Dielektrikum (130) oder die Anschlusselektroden (120, 140) derart ausgebildet werden, dass transiente Polarisationseffekte verhindert, zumindest reduziert werden.
申请公布号 DE102005018029(A1) 申请公布日期 2006.10.26
申请号 DE200510018029 申请日期 2005.04.14
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 JAKSCHIK, STEFAN;SCHROEDER, UWE;HECHT, THOMAS;AVELLAN, ALEJANDRO
分类号 H01L21/8242 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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