Method for Forming Semiconductor Pattern,申请号KR20040112425-传众专利搜索

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发明名称	Method for Forming Semiconductor Pattern
摘要
申请公布号	KR100639030(B1)	申请公布日期	2006.10.26
申请号	KR20040112425	申请日期	2004.12.24
申请人		发明人
分类号	H01L21/3213;H01L21/336	主分类号	H01L21/3213
代理机构		代理人
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