摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Reinigung von Quarzglasschutzröhren, wie sie typischerweise in UV-Bestrahlungskammern, auch als UV-Reaktoren bezeichnet, enthalten sind. Die Fig. 1 zeigt schematisch einen aufgeschnittenen zylindrischen UV-Reaktor mit erfindungsgemäßer Reinigungseinrichtung in perspektivischer Darstellung. Gezeigt sind mit (1) ein Teil des äußeren Reaktorkörpers eines UV-Reaktors sowie die Quarzglasröhre (2) und der in ihr untergebrachte UV-Strahler (3). Mit dem wendelförmigen Pfeil (4) wird die rotierende Strömung angedeutet, die in schraubenförmiger Weise um die Quarzglasröhre (2) herum fließt. DOLLAR A Die erfindungsgemäße Reinigungseinrichtung (5) besteht aus den langgezogenen streifenförmigen Wischblättern (6) und den Verbindungsringen (7), von denen nur einer dargestellt ist. Die gesamte Reinigungseinrichtung (5) wird durch die Strömung in Richtung der Strömungspfeile (4) angetrieben. Dadurch streifen die Wischblätter (6) mit ihren Schmalseiten auf der Quarzglasröhre um ihre Achse herum und verhindern das Ablagern von Feststoffen auf der Quarzrohroberfläche bzw. schaben vorhandene Beläge ab.
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