发明名称 利用相移孔隙的投影式光刻方法
摘要 本发明提供了一种用于投影式微影制程的平板50,其具有第一不透明区域54,位于这个平板50的,及第二不透明区域56,形成在这个平板50的外缘52。这个第一不透明区域及这个第二不透明区域会定义一个光传导环状区域58。这个环状区域58乃是包括第一光传导区域60、62,藉以对穿透光线施予一第一相移,以及第二光传导区域64、66,藉以对穿透光线施予一第二相移。
申请公布号 CN1282038C 申请公布日期 2006.10.25
申请号 CN01821186.0 申请日期 2001.11.29
申请人 因芬尼昂技术北美公司 发明人 P·施罗伊德;T·莫诺
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 梁永
主权项 1.一种光学微影方法,用以将一图案附加于一基材表面,其中来自照射源的非相干光线穿经孔隙平板以行投影式微影制程,并穿经其上有图案的光罩,其中所述用于投影式微影制程的孔隙平板包括:一第一不透明区域,位于该孔隙平板的中央;以及一第二不透明区域,形成于该孔隙平板的一外缘,在该第一及该第二不透明区域间定义一环状区域,该环状区域包含具有一第一厚度的一第一光传导区域,用以对穿透光线施予一第一相移,及具有一第二厚度的一第二光传导区域,用以对穿透光线施予一第二相移,其中上述第一厚度异于上述第二厚度,且该第二相移异于该第一相移;其中该第一光传导区域包括一第一及一第二传导区域,且该第一与第二传导区域位在该环状区域的相对部份以彼此相对排列,而该第二光传导区域包括一第三及一第四传导区域,且该第三与第四传导区域位于该环状区域的另一相对部份以彼相对排列。
地址 美国加利福尼亚州