发明名称 |
超分子插层2-苯基苯并咪唑-5-磺酸及其制备方法和用途 |
摘要 |
本发明提供了一种超分子插层2-苯基苯并咪唑-5-磺酸及其制备方法与用途。本发明利用水滑石具有可插层组装的特点,在水滑石层间插入2-苯基苯并咪唑-5-磺酸(2-Phenylbenzimidazole-5-Sulfonic Acid,简写PSA)的阴离子(酸根),制备层间客体为PSA阴离子(C<SUB>13</SUB>H<SUB>10</SUB>N<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>S)-的超分子插层结构材料。该超分子插层结构材料的化学组成式为[M<SUP>2+</SUP><SUB>1-xB>x</SUB> (OH)<SUB>2</SUB>](C<SUB>13</SUB>H<SUB>10</SUB>N<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>S)-SUB>O,对230-340nm波段紫外光的吸收率大于80%。该超分子插层结构材料的紫外光吸收范围及吸收能力与插层客体PSA相比有显著的提高,并且其层间物种的明显分解温度在520℃左右,与插层客体PSA相比热稳定性也有所提高。该超分子插层结构材料可作为紫外光吸收剂用作如聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯氰-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)以及聚氨酯等易光氧降解树脂的耐光老化添加剂。 |
申请公布号 |
CN1850787A |
申请公布日期 |
2006.10.25 |
申请号 |
CN200610080874.8 |
申请日期 |
2006.05.19 |
申请人 |
北京化工大学 |
发明人 |
李殿卿;段雪;脱振军;林彦军 |
分类号 |
C07C235/18(2006.01);G03C1/73(2006.01) |
主分类号 |
C07C235/18(2006.01) |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 |
代理人 |
何俊玲 |
主权项 |
1.一种超分子插层2-苯基苯并咪唑-5-磺酸,化学组成式为:[M2+1-xM3+x(OH)2](C13H10N2O3S)-x·mH2O 其中0.2≤x≤0.33,m为层间结晶水分子数,0≤m≤2;M2+、M3+分别代表层板二价、三价金属离子,M2+是Mg2+、Ni2+、Zn2+、Fe2+或Cu2+中的任何一种,M3+是Al3+、Co3+、Fe3+、Ti3+或Ga3+中的任何一种,M2+/M3+摩尔比为2-4∶1;该超分子插层结构紫外光吸收剂对230-340nm波段紫外光吸收率大于80%,最大吸收率87%出现在280nm处,层间有机物种的明显分解温度在520℃左右。 |
地址 |
100029北京市朝阳区北三环东路15号 |