发明名称 制程水路系统
摘要 一种制程水路系统,包括有一储气槽、一桶槽、一泵(pump)以及制程机台(process equipment)。该储气槽用来提供高压气体,而该桶槽内部填充有制程用水以及该高压气体以使该制程用水具有一预定静压值(staticpressure)。其中该泵吸取该桶槽内的制程用水以输送至该制程机台,并且该制程用水自该制程机台回流至该桶槽。
申请公布号 CN1282217C 申请公布日期 2006.10.25
申请号 CN03125002.5 申请日期 2003.04.29
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 巫信东;刘华亮;曹志杰
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陈小雯;李晓舒
主权项 1.一种制程水路系统,包括有:一储气槽,用来提供高压气体;一桶槽,内部填充有制程用水以及该高压气体,以使该制程用水具有一预定静压值,其中该高压气体不会与该桶槽内的制程用水发生化学反应,该预定静压值略小于该制程用水的回流压力;一泵;以及制程机台;其中该泵吸取该桶槽内的制程用水以输送至该制程机台,并且该制程用水自该制程机台回流至该桶槽。
地址 台湾省新竹市