| 发明名称 | 记录光学记录载体的方法、光学记录载体和用于写入信息的装置 | ||
| 摘要 | 本发明描述的是一种记录光学记录载体的方法、光学记录载体(11)和用于将信息写到光学记录载体(11)上的装置。通过控制辐射源将辐射束导引到光学记录载体(11)的记录表面上，所述记录的光学记录载体的方法形成凹坑和平台，所述方法包括如下步骤：从包括至少两个写策略的光学记录载体(11)中读取一个写策略，并且利用所读取的写策略控制所述辐射源来形成凹坑和平台，其中所述方法另外包括一个进行确定的步骤，其通过读取在光学记录载体(11)上存在的一个指示符来确定至少两个写策略中的哪一个是最佳的，并且其中所述方法采用最佳写策略来形成凹坑和平台。如果用于将信息写到光学记录载体(11)上的装置能够应用存储在光学记录载体上的两个或者更多写策略，那么所述装置读取所述指示符并且采用最佳的一个写策略。 | ||
| 申请公布号 | CN1853221A | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
| 申请号 | CN200480026939.X | 申请日期 | 2004.09.09 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | B·范罗姆佩伊;M·库伊珀 |
| 分类号 | G11B7/0045(2006.01);G11B7/007(2006.01) | 主分类号 | G11B7/0045(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴立明;陈景峻 |
| 主权项 | 1、一种记录光学记录载体的方法，其通过控制辐射源将辐射束导引到光学记录载体的记录表面上而形成凹坑和平台，所述方法包括步骤如下：从包括至少两个写策略的光学记录载体读取一个写策略，和通过利用所读取的写策略控制辐射源来形成凹坑和平台，其中所述方法进一步包括一个进行确定的步骤，其通过读取在光学记录载体上存在的一个指示符来确定至少两个写策略中的哪一个是最佳的，并且其中所述方法使用最佳写策略来形成凹坑和平台。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||