发明名称 ⅠB-ⅢA-ⅥA族四元或更多元合金半导体薄膜的制备方法
摘要 本发明涉及制备IB-IIIA-VIA族四元或更多元合金半导体薄膜的方法,其中该方法包括步骤(i)提供包含IB族和IIIA族金属的混合物的金属薄膜;(ii)在第一VIA族元素(所述第一VIA族元素下文中表示为VIA<SUB>1</SUB>)源存在下热处理金属薄膜,其条件以形成包含至少一种二元合金和至少一种IB-IIIA-VIA<SUB>1</SUB>族三元合金的混合物的第一薄膜,所述二元合金选自IB-VIA<SUB>1</SUB>族合金和IIIA-VIA<SUB>1</SUB>族合金;(iii)在第二VIA族元素(所述第二VIA族元素下文中表示为VIA<SUB>2</SUB>)源存在下可选的热处理第一薄膜,其条件以将第一薄膜转换为第二薄膜,第二薄膜包含选自IB-VIA<SUB>1</SUB>-VIA<SUB>2</SUB>族合金和IIIA-VIA<SUB>1</SUB>-VIA<SUB>2</SUB>族合金的至少一种合金和至少一种步骤(ii)的IB-III-VIA<SUB>1</SUB>族三元合金;(iv)热处理第一薄膜或第二薄膜以形成IB-IIIA-VIA族四元或更多元合金半导体。
申请公布号 CN1853282A 申请公布日期 2006.10.25
申请号 CN200480026849.0 申请日期 2004.08.13
申请人 约翰内斯堡大学 发明人 V·艾伯茨
分类号 H01L31/032(2006.01);H01L31/18(2006.01) 主分类号 H01L31/032(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蔡胜有
主权项 1.一种制备IB-IIIA-VIA族四元或更多元合金半导体薄膜的方法,该方法包括步骤:(i).提供包含IB族和IIIA族金属的混合物的金属薄膜;(ii).在第一VIA族元素(所述第一VIA族元素下文中表示为VIA1)源存在下热处理金属薄膜,其条件以形成包含至少一种二元合金和至少一种IB-IIIA-VIA1族三元合金的混合物的第一薄膜,所述二元合金选自IB-VIA1族合金和IIIA-VIA1族合金;(iii).在第二VIA2族元素(所述第二VIA族元素下文中表示为VIA2)源存在下可选的热处理第一薄膜,其条件以将步骤(ii)的第一薄膜转换为第二薄膜,第二薄膜包含选自IB-VIA1-VIA2族合金和IIIA-VIA1-VIA2族合金的至少一种合金和至少一种步骤(ii)的IB-IIIA-VIA1族三元合金;和(iv).热处理步骤(ii)的第一薄膜或步骤(iii)的第二薄膜以形成IB-IIIA-VIA族四元或更多元合金半导体薄膜。
地址 南非约翰内斯堡