| 发明名称 | 一种等离子处理线圈 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种等离子处理线圈，安装在反应腔室上盖上，为圆环形，采用立体结构，每一个圆环处于不同的平面上，且圆心在同一轴线上，直径越大的圆环离反应腔室上盖平面越远，每个圆环在同一方向设置缺口，形成圆环的出入两端，并将每个圆环的出端与其相邻外圈圆环的入端连接，最内圈圆环的入端与最外圈圆环的出端作为等离子处理线圈的两个引线端。通过使用本发明的立体结构等离子处理线圈，改变了电磁场在腔室的分布状况，提高了等离子的均匀分布程度。 | ||
| 申请公布号 | CN1851845A | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
| 申请号 | CN200510126379.1 | 申请日期 | 2005.12.08 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 王铮 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H05H1/00(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 蔡世英 |
| 主权项 | 1、一种等离子处理线圈，安装在反应腔室上盖上，为圆环形，其特征在于，每一个圆环处于不同的平面上，且圆心在同一轴线上，直径越大的圆环离反应腔室上盖平面越远。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||