发明名称 方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪
摘要 本发明涉及一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪,包括:一个三角形工作台面(3),在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1),每个圆座(1)上安置一个可转动的小钢球(11);在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置,分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2);一个圆盘(6),所述的圆盘(6)与小滚珠轴承连固定座(2)滚动连接,并在中部分别有安置方形玻璃基片(5)的槽座(61);在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4);克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素,使测量精度大大提高:达到0.001mm;十几秒种即可从千分表中读出数值。
申请公布号 CN1851387A 申请公布日期 2006.10.25
申请号 CN200510025359.5 申请日期 2005.04.22
申请人 上海申菲激光光学系统有限公司 发明人 周德林
分类号 G01B5/28(2006.01) 主分类号 G01B5/28(2006.01)
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 薛琦
主权项 1.一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪,其特征在于包括:一个三角形工作台面(3),在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1),每个圆座(1)上安置一个可转动的小钢球(11);在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置,分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2);一个圆盘(6),所述的圆盘(6)与小滚珠轴承连固定座(2)滚动连接,并在中部分别有安置方形玻璃基片(5)的槽座(61);在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4)。
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