| 发明名称 | 前体供应系统 | ||
| 摘要 | 一种半导体处理系统包括一个可变体积室。此可变体积室内可包含一个液态或固态前体源。可变体积室的体积可以控制，以为处理室提供一个可预测的前体流。在某些实施例中，可提供多个可变体积室。 | ||
| 申请公布号 | CN1853002A | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
| 申请号 | CN200480026642.3 | 申请日期 | 2004.09.15 |
| 申请人 | 英特尔公司 | 发明人 | R·库斯 |
| 分类号 | C23C16/448(2006.01);C30B25/14(2006.01);B01J4/00(2006.01) | 主分类号 | C23C16/448(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种半导体处理系统，包括：可变体积室，它为半导体工序提供材料；压力检测器，用来检测指示可变体积室压力的参数，并产生指示所述可变体积室压力的输出；及与压力检测器和可变体积室相连的压力控制器，它根据压力检测器的输出将力施加到可变体积室。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||