| 发明名称 | 一种刻蚀设备的射频起辉控制方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种刻蚀设备的射频起辉控制方法，通过以下步骤：A.在射频起辉过程中预设匹配电容的位置；B.在工艺步骤切换过程时，对射频电源的能量调节按平滑缓变方式进行，并设置匹配器电容调节方式为射频能量自动跟踪方式。本发明的方法能够可靠地保证射频系统起辉并避免工艺步骤切换过程中的辉光熄灭，从而提高了系统的可靠性。 | ||
| 申请公布号 | CN1852628A | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
| 申请号 | CN200510126351.8 | 申请日期 | 2005.12.07 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 张秀川 |
| 分类号 | H05H1/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王常风 |
| 主权项 | 1、一种刻蚀设备的射频起辉控制方法，包括以下步骤：A.在射频起辉过程中预设匹配电容的位置；B.在工艺步骤切换过程时，对射频电源的能量调节按平滑缓变方式进行，并设置匹配器电容调节方式为射频能量自动跟踪方式。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||