| 发明名称 | 使用阶梯形型面的掩膜来制造薄膜结构的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种用于制造沉积在底衬(14)上的薄膜结构的系统和方法。该薄膜结构具有沿底衬(14)半径变化的不同的相应厚度。底衬(14)围绕旋转轴线旋转，并且被沉积材料的源指向旋转底衬。具有阶梯形型面的掩膜(20)定位在旋转的底衬(14)和该源之间。该阶梯形的掩膜(20)选择性地阻挡从该源发射出的材料，以防止其到达该底衬。该掩膜(20)的型面的每一阶梯部对应于薄膜结构的相应厚度中的一个厚度。薄膜结构的不同的相应厚度沿半径变化，该半径从旋转底衬的旋转轴线开始测量。 | ||
| 申请公布号 | CN1281782C | 申请公布日期 | 2006.10.25 |
| 申请号 | CN02806717.7 | 申请日期 | 2002.03.13 |
| 申请人 | 4波公司 | 发明人 | D·A·巴尔德温;T·L·海尔顿 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C23C16/00(2006.01);G02B1/10(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平;章社杲 |
| 主权项 | 1.一种用于制造沉积在底衬上的薄膜结构的系统，其中该薄膜结构至少具有沿该底衬的半径改变的不同的第一厚度和第二厚度，该系统包括：(a)旋转底衬；(b)指向该旋转底衬的被沉积材料的源；和(c)定位在该旋转底衬和该源之间的掩膜，该掩膜具有阶梯形的型面，该阶梯形型面的每一阶梯部对应于所述至少具有的第一厚度和第二厚度中的一个厚度；以及其中，该半径从该旋转底衬的旋转轴线开始测量。 | ||
| 地址 | 美国弗吉尼亚州 | ||