发明名称 |
利用对靶型溅射装置制造有机薄膜器件的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种在由有机化合物形成的有机功能层上形成薄膜层如金属膜或透明导电膜的方法,该方法利用在低放电电压和低气压下进行的而不会对有机层表面产生任何损坏的溅射方法。利用对靶型溅射装置形成薄膜层,该装置包括一对彼此间以预定距离设置的对靶;在每个靶周围设置的电子反射电极;在每个靶的侧边设置的磁场产生设备。该磁场产生设备产生了从一个靶向另一个靶延伸的磁场以环绕在对靶间提供的局限空间,以及在靶的围缘部分的附近有一部分平行于每个靶表面的磁场。当向该装置提供含有DC成分和高频成分的AC-DC电源作为溅射电源时,薄膜层可在低放电电压和低气压下形成。 |
申请公布号 |
CN1281783C |
申请公布日期 |
2006.10.25 |
申请号 |
CN02106168.8 |
申请日期 |
2002.04.08 |
申请人 |
城户淳二;爱美思公司 |
发明人 |
城户淳二;横井啓;门仓贞夫 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01);H05B33/06(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
戈泊;彭益群 |
主权项 |
1.一种制造有机薄膜器件的方法,该有机薄膜器件具有包括由有机化合物形成的有机功能层和沉积在该有机层上的薄膜层的结构,该方法包括:利用对靶型溅射装置形成薄膜层,该溅射装置包括一对彼此间以预定距离设置的对靶;在每个靶周围设置的电子反射电极以面对在对靶间提供的局限空间;在每个靶的侧边设置的磁场产生设备,其中该磁场产生设备产生了从一个靶向另一个靶延伸的磁场以环绕该局限空间,以及在靶的围缘部分的附近有一部分平行于每个靶表面的磁场;其中所述薄膜层在300V或更小的放电电压下以及在0.3Pa或更小的气体压力下形成。 |
地址 |
日本山形县 |