| 主权项 |
1.一种高纯度偏磷酸盐,其特征为各有色金属元素杂质浓度为5ppm以下。2.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其中前述有色金属元素为铁、铬、镍、锰或铜中至少一种。3.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其中游离磷酸之含有量为2重量%以下。4.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其中强热减量为2重量%以下。5.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系铝盐。6.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系钡盐。7.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系锌盐。8.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系钙盐。9.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系镁盐。10.如申请专利范围第1项之高纯度偏磷酸盐,其系使用于光学用镜制造用原料或雷射光增幅用玻璃原料。11.一种高纯度偏磷酸盐之制造方法,系申请专利范围第1项之制造方法,具备将构成该偏磷酸盐之金属化合物与磷酸反应制造该金属磷酸盐之第1步骤,以及于事先敷有该偏磷酸盐粉末之烧容器中,加入第1步骤得到之磷酸盐并烧之第2步骤。12.如申请专利范围第11项之高纯度偏磷酸盐制造方法,其中第2步骤中之烧容器系使用由金属铝、氧化铝或谨青石构成之容器。13.如申请专利范围第11项之高纯度偏磷酸盐制造方法,其进一步具有将第2步骤得到之烧物粉碎之第3步骤。14.如申请专利范围第13项之高纯度偏磷酸盐制造方法,其进一步具有将第3步骤得到之粉碎物以水洗净并乾燥以除去游离磷酸之第4步骤。15.一种高纯度偏磷酸盐之制造方法,系申请专利范围第5项之制造方法,特征为将铝化合物与磷酸酐与聚磷酸混合得到之混合物放入事先敷有偏磷酸铝粉末之烧容器中烧。16.如申请专利范围第15项之高纯度偏磷酸盐制造方法,其中烧容器系使用由金属铝或氧化铝构成之容器。17.如申请专利范围第15项之高纯度偏磷酸盐制造方法,其中系烧物以水洗净并乾燥以除去游离磷酸。图式简单说明:图1表示实施例得到之偏磷酸铝之XRD图。图2表示实施例得到之偏磷酸钡之XRD图。图3表示实施例得到之偏磷酸锌之XRD图。图4表示实施例得到之偏磷酸钙之XRD图。图5表示实施例得到之偏磷酸镁之XRD图。 |
