| 主权项 |
1.一种微影制造方法,其步骤包含有:- 提供一基板,至少局部覆盖了一层对辐射敏感的材料;- 利用一辐射系统提供一辐射投影光线;- 提供至少一成型装置,包括一元件图形;- 利用该至少一成型装置,使投影光线呈现该元件图形;- 将成型之辐射光线投影在对辐射敏感之材料层的复数个目标区上;其特征在该元件图形内含至少一个参考标记,且在于决定该复数个目标区中之两个的相关配置的步骤,其系藉由测量该两目标区之该至少一个参考标记的校准情形。2.如请求项1之方法,其中该复数个目标区在介面处互相毗连或重叠,投影至该目标区之元件图形具有该至少一个参考标记之至少一个与每一介面相关。3.如请求项2之方法,其中该等参考标记位于该图形中,使该图形具有至少两个对称于该等参考标记的座标轴。4.如请求项1,2或3之方法,还包括之步骤为将该对辐射敏感之材料显影,以便在该基板上形成复数个显影图形。5.如请求项1,2或3之方法,其中若在该决定步骤侦测到失准现象,该已曝光,由对辐射敏感之材料制成之层板即被移除,而此方法可再度进行。6.如请求项1,2或3之方法,还包括之步骤为将后续基于该决定步骤之投影步骤最佳化。7.一种根据请求项1、2、3、4、5或6的方法所制造之元件。8.一种微影投影遮罩,用于使一辐射光线呈现一元件图形,该遮罩含有一元件图形,且其特征在该元件图形内含至少一个参考标记。图式简单说明:图1为根据本发明之一实施例,描述一微影投影装置;图2为根据本发明之一遮罩,描述一微影元件图形;图3描述在一基板表面上复数个显影图形;图4说明在一基板表面上毗连之图形的失准测量;以及图5说明根据本发明之一参考标记。 |
