| 主权项 |
1.一种紫外光照射装置(UV Curing Apparatus),包括:一承载部,用以承载一对母板;及一光学部,用以照射该对母板,该光学部至少包括;一背光模组,位于该承载部之一侧,用以使光线均匀照射至该对母板,其中该背光模组至少包括一导光板和一光源,且该光源位于该导光板之侧边处。2.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组系位于该承载部之下方,使光线经过该导光板后自下往上照射该对母板。3.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组系位于该承载部之上方,使光线经过该导光板后自上往下照射该对母板。4.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该光学部包括一第一背光模组和一第二光学模组,分别位于该承载部之下方和上方,使光线可同时照射该对母板之两侧。5.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该光源为一长型灯管(UV Lamp)。6.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该光源为一点状光源(Spot UV Lamp)。7.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组更包括一反射板,设置于该导光板之一侧,用以将光线反射至该导光板上。8.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组更包括至少一扩散膜,设置于该导光板与该对母板之间,用以均匀扩散自该导光板射出之光线。9.如申请专利范围第1项所述之紫外光照射装置,其中该对母板包括一具有薄膜电晶体(TFT)之第一基板和一具有彩色滤光镜(CF)之第二基板。10.如申请专利范围第9项所述之紫外光照射装置,其中该对母板包含复数个面板。11.如申请专利范围第9项所述之紫外光照射装置,其中在对组步骤之前,系在该第二基板上进行框胶涂布之步骤。12.一种紫外光照射装置(UV Curing Apparatus),包括:一承载部,用以承载一对母板;及一光学部,用以照射该对母板,该光学部至少包括;一背光模组,位于该承载部之一侧,用以使光线均匀照射至该对母板,该背光模组至少包括:一导光板组合,由复数张导光板以nm阵列方式组合而成(n和m为自然数);和一光源组合,包括复数个光源,该些光源系与该些导光板之位置相对应,以使光线到达该些导光板。13.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该些光源为复数个点状光源。14.如申请专利范围第13项所述之紫外光照射装置,其中该些点状光源系分别位于该些导光板之一侧。15.如申请专利范围第13项所述之紫外光照射装置,其中该些点状光源系分别对应于每一导光板之周围。16.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该些光源为复数个长型灯管。17.如申请专利范围第16项所述之紫外光照射装置,其中该些长型灯管系系分别对应于该些导光板之交界处。18.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组系位于该承载部之下方,使光线经过该导光板组合后自下往上照射该对母板。19.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组系位于该承载部之上方,使光线经过该导光板组合后自上往下照射该对母板。20.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该光学部包括一第一背光模组和一第二光学模组,分别位于该承载部之下方和上方,使光线可同时照射该对母板之两侧。21.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组更包括一反射板,设置于该导光板组合之一侧,用以将光线反射至该导光板组合上。22.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该背光模组更包括至少一扩散膜,设置于该导光板组合与该对母板之间,用以均匀扩散自该导光板组合射出之光线。23.如申请专利范围第12项所述之紫外光照射装置,其中该对母板包括一具有薄膜电晶体(TFT)之第一基板和一具有彩色滤光镜(CF)之第二基板。24.如申请专利范围第23项所述之紫外光照射装置,其中该对母板包含复数个面板。25.如申请专利范围第23项所述之紫外光照射装置,其中在对组步骤之前,系在该第二基板上进行框胶涂布之步骤。图式简单说明:第1图为一种传统之紫外光照射装置(UV)之简单示意图;第2图绘示本发明第一实施例之紫外光照射装置(UV)之简单示意图;第3图为本发明第一实施例之第一种背光模组之示意图;第4图绘示本发明第一实施例之第二种背光模组之示意图;第5图绘示本发明第二实施例之紫外光照射装置(UV)之简单示意图;第6A图绘示依照本发明第三实施例之一种导光板和长形灯管之组合;及第6B图绘示依照本发明第三实施例之一种导光板和点状光源之组合。 |
