发明名称 偏光板内塑胶薄膜的前处理方法
摘要 本发明提供一种偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,系在一塑胶薄膜贴合至一聚乙烯醇膜前,依序执行一硷处理步骤、一第一水洗步骤、一酸处理步骤、一第二水洗步骤以及一乾燥处理步骤,使得此塑胶薄膜与光学黏着剂之接触角能迅速降低,如此才能使得塑胶薄膜贴合至聚乙烯醇膜时不致发生剥离的现象;此外当此塑胶薄膜外贴合其他功能薄膜时,依本发明所提供之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法处理后也不致发生脏污的现象而影响了偏光板的品质。
申请公布号 TWI264597 申请公布日期 2006.10.21
申请号 TW093106761 申请日期 2004.03.12
申请人 力特光电科技股份有限公司 发明人 施明志;郑尧中;王宜屏
分类号 G02F1/1335 主分类号 G02F1/1335
代理机构 代理人 陈达仁 台北市中山区南京东路2段111号8楼之3;谢德铭 台北市中山区南京东路2段111号8楼之3
主权项 1.一种偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,包含:提供一塑胶薄膜;执行一硷处理步骤,将该塑胶薄膜置于一硷性溶液内,用以作表面改质,增加该塑胶薄膜表面的氢氧基;执行一第一水洗步骤;执行一酸处理步骤,将该塑胶薄膜置于一酸性溶液内,用以做酸硷中和;执行一第二水洗步骤,用以清洗该塑胶薄膜表面残留之该硷性溶液以及该酸性溶液,并将该塑胶薄膜表面附着的不纯物除去;以及执行一乾燥处理步骤。2.如申请专利范围第1项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该塑胶薄膜系可选自一三醋酸纤维膜。3.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液系可选自一氢氧化钾溶液。4.如申请专利范围第3项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之当量浓度系为一1至1.7之范围。5.如申请专利范围第3项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之当量浓度系为1.45。6.如申请专利范围第3项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之当量浓度系为1.5。7.如申请专利范围第3项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之当量浓度系为1.55。8.如申请专利范围第3项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之当量浓度系为1.6。9.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该塑胶薄膜置于该硷性溶液内之时间系为一50秒至150秒之范围。10.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该塑胶薄膜置于该硷性溶液内之时间系为100秒。11.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之溶液温度系为一30℃至65℃之范围。12.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之溶液温度系为40℃。13.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硷性溶液之溶液温度系为50℃。14.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第一水洗步骤系将该塑胶薄膜置入一纯水中。15.如申请专利范围第14项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第一水洗步骤之时间系为一1秒至30秒之范围。16.如申请专利范围第14项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第一水洗步骤之时间系为4秒。17.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中其中该酸性溶液系可选自一硫酸溶液。18.如申请专利范围第17项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硫酸溶液之当量浓度系为一0.008至1之范围。19.如申请专利范围第17项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硫酸溶液之当量浓度系为0.1。20.如申请专利范围第17项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该硫酸溶液之当量浓度系为0.33。21.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该塑胶薄膜置于该酸性溶液内之时间系为一1秒至20秒之范围。22.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该塑胶薄膜置于该酸性溶液内之时间系为4秒。23.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该酸性溶液之溶液温度系为一20℃至50℃之范围。24.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中该酸性溶液之溶液温度系为25℃。25.如申请专利范围第2项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第二水洗步骤包含将该塑胶薄膜置入一纯水中。26.如申请专利范围第25项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第二水洗步骤之时间系为一1秒至30秒之范围。27.如申请专利范围第25项所述之偏光板内塑胶薄膜的前处理方法,其中执行该第二水洗步骤之时间系为4秒。图式简单说明:第一图为一偏光板之结构示意图。第二图为一偏光板内三醋酸纤维膜前处理的方法流程图。
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