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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Beugungsgitters (20) für ein diffraktives optisches Element mit einem oder mehreren Unterbereichen (22), die jeweils ein durch eine Gitterkonstante und eine Winkelorientierung definiertes Gittermuster enthalten. Bei dem Verfahren wird die Position mindestens einer Quelle (12), von der aus Strahlung auf das Beugungsgitter (20) einfällt, sowie die Position mindestens eines Ziels (18), zu dem hin das Beugungsgitter (20) die Strahlung ablenken soll, vorgegeben. Die räumliche Lage und Orientierung der Unterbereiche (22) sowie die Gitterkonstanten und die Winkelorientierung der Gittermuster, die erforderlich sind, um die von der Quelle (12) auf das Beugungsgitter (20) einfallende Strahlung auf das Ziel (18) hin abzulenken, werden unter Verwendung einer lokalen Vektorbeziehung bestimmt, die die Orientierung des Gitters im dreidimensionalen Raum, die einfallende und ausfallende Strahlung und die Lage und Orientierung der Gittermuster miteinander verknüpft.
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