| 发明名称 |
Chemisch verstärkte Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines gemusterten Films unter Verwendung derselben |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10147011(B4) |
申请公布日期 |
2006.10.19 |
| 申请号 |
DE2001147011 |
申请日期 |
2001.09.25 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD. |
发明人 |
YAMAMOTO, HAJIME;MURAKAMI, KENICHI;TAKECHI, SATOSHI |
| 分类号 |
G03F7/039;C08F220/12;C08F232/04;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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