发明名称 一种将硅片的中心放置在静电卡盘中心的方法
摘要 本发明涉及通过在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关传感器,准确计算出硅片在机械手的偏离位置和机械手上硅片的有无,指导机械手自动调整偏差放片,保证硅片中心定位在反应式静电卡盘中心位置的方法。
申请公布号 CN1848401A 申请公布日期 2006.10.18
申请号 CN200510126439.X 申请日期 2005.12.09
申请人 北京圆合电子技术有限责任公司 发明人 李永军
分类号 H01L21/68(2006.01);H01L21/677(2006.01);H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人 向华
主权项 1、一种将硅片的中心放置在静电卡盘中心的方法,其特征在于,在真空传输腔室与刻蚀反应腔室的连接处安装两个普通光电开关(S1、S2),其中第一光电开关(S1)放置在反应腔室与传输腔室连接处的机械手中心运动的轨迹上,第二光电开关(S2)放置在平行于硅片的平面内垂直于机械手中心运动的轨迹的直线上,第一光电开关(S1)与第二光电开关(S2)之间的距离等于硅片的半径R;利用上述第一光电开关(S1)获得硅片经过光点的距离(L);利用上述第二光电开关(S2)判定硅片中心上偏移或下偏移;计算硅片的中心位置;根据离开光点时机械手的中心位置和计算出的硅片中心位置,指导机械手自动调整偏差放片。
地址 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号