| 发明名称 | 用于化学机械抛光的磨料颗粒 | ||
| 摘要 | 一种用于抛光基材的磨料组合物，包括许多具有多分散粒度分布的磨料颗粒，所述多分散粒度分布的中值粒度按体积为约20纳米到约100纳米；跨度值按体积为大于或等于约20纳米，其中大于约100纳米的颗粒分数小于或等于磨料颗粒的约20体积％。 | ||
| 申请公布号 | CN1849379A | 申请公布日期 | 2006.10.18 |
| 申请号 | CN200480026003.7 | 申请日期 | 2004.07.09 |
| 申请人 | 格雷斯公司 | 发明人 | J·－N·楚;J·N·普赖尔 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01);C09G1/02(2006.01);H01L21/321(2006.01) | 主分类号 | C09K3/14(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭广迅;赵苏林 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光基材的磨料组合物，包括：许多具有多分散粒度分布的磨料颗粒，所述多分散粒度分布的中值粒度按体积为约20纳米到约100纳米；跨度值按体积为大于或等于约20纳米，其中大于约100纳米的所述颗粒分数小于或等于磨料颗粒的约20体积％。 | ||
| 地址 | 美国马里兰州 | ||