发明名称 宽光谱、大功率的半导体超辐射发光二极管及制作方法
摘要 一种宽光谱、大功率的半导体超辐射发光二极管,包括:一衬底片;一二氧化硅层,该二氧化硅层制作在衬底片上,在二氧化硅层上刻蚀出平行的宽度渐变的两个三角形二氧化硅图形;一缓冲层,该缓冲层制作在两个三角形二氧化硅图形之间;一下限制层,该下限制层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在缓冲层上;一多量子阱层,该多量子阱层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在下限制层上,形成能带结构空间变化的半导体多量子阱层结构;一上限制层,该上限制层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在多量子阱上;一包层,该包层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在上限制层上;一接触层,该接触层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在包层上。
申请公布号 CN1848464A 申请公布日期 2006.10.18
申请号 CN200510056278.1 申请日期 2005.04.04
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 李宝霞;张靖;赵玲娟;王圩
分类号 H01L33/00(2006.01);H01S5/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1、一种宽光谱、大功率的半导体超辐射发光二极管,其特征在于,包括:一衬底片;一二氧化硅层,该二氧化硅层制作在衬底片上,在二氧化硅层上刻蚀出平行的宽度渐变的两个三角形二氧化硅图形;一缓冲层,该缓冲层制作在两个三角形二氧化硅图形之间;一下限制层,该下限制层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在缓冲层上;一多量子阱层,该多量子阱层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在下限制层上,形成能带结构空间变化的半导体多量子阱结构;一上限制层,该上限制层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在多量子阱上;一包层,该包层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在上限制层上;一接触层,该接触层采用金属有机物化学气相沉淀方法淀积在包层上。
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